蘇教版必修2《4.1 化學(xué)是認(rèn)識(shí)和創(chuàng)造物質(zhì)的科學(xué)》2012年同步練習(xí)卷
發(fā)布:2024/10/27 17:30:2
一、單項(xiàng)選擇題
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1.化學(xué)真正成為一門(mén)科學(xué)并較快發(fā)展,始于( ?。?/h2>
組卷:22引用:3難度:0.9 -
2.人類(lèi)使用材料的增多和變化,標(biāo)志著人類(lèi)文明的進(jìn)步,下列材料與化學(xué)制備無(wú)關(guān)的是( ?。?/h2>
組卷:90引用:9難度:0.9 -
3.下列屬于傳統(tǒng)濕法冶煉銅的是( ?。?/h2>
組卷:30引用:1難度:0.9 -
4.鈉多以資源豐富的NaCl為原料來(lái)制備,下列方法中能夠制備出金屬鈉的是( ?。?/h2>
組卷:14引用:4難度:0.9
二、非選擇題
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11.下圖表示從固體混合物中分離X的2種方案,請(qǐng)回答有關(guān)問(wèn)題.
(1)選用方案I時(shí),X應(yīng)該具有的性質(zhì)是
(2)選用方案Ⅱ從某金屬粉末(含有Au、Ag和Cu)中分離Au,加入的試劑是
(3)為提純某Fe2O3樣品(主要雜質(zhì)有SiO2、Al2O3),參照方案I和Ⅱ,請(qǐng)?jiān)O(shè)計(jì)一種以框圖形式表示的實(shí)驗(yàn)方案(注明物質(zhì)和操作)組卷:187引用:3難度:0.5 -
12.硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣.請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅.三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過(guò)程示意圖如圖所示:
(1)寫(xiě)出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式:
(2)整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧.SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫(xiě)出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式:
H2還原SiHCl3過(guò)程中若混入O2,可能引起的后果是組卷:105引用:2難度:0.9