蘇教版必修2《4.1 化學是認識和創(chuàng)造物質的科學》2012年同步練習卷

一、單項選擇題

• 1．化學真正成為一門科學并較快發(fā)展，始于（　?。?/h2>

  A．舍勒發(fā)現氧氣	B．質量守恒定律的發(fā)現
  C．原子-分子論的問世	D．中國濕法冶金術的推廣
  組卷：22引用：3難度：0.9

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• 2．人類使用材料的增多和變化，標志著人類文明的進步，下列材料與化學制備無關的是（　?。?/h2>

  A．石器

  B．青銅器

  C．鐵器

  D．高分子材料
  組卷：90引用：9難度：0.9

  解析

• 3．下列屬于傳統(tǒng)濕法冶煉銅的是（　?。?/h2>

  A．CO還原CuO制取Cu

  B．電解CuCl2溶液制取Cu

  C．高溫下O2與Cu2S反應制取Cu

  D．Fe與CuSO4溶液反應制取Cu
  組卷：30難度：0.9

  解析

• 4．鈉多以資源豐富的NaCl為原料來制備，下列方法中能夠制備出金屬鈉的是（　?。?/h2>

  A．加熱NaCl晶體

  B．用金屬鉀置換出NaCl溶液中Na+

  C．電解NaCl溶液

  D．電解熔融的NaCl
  組卷：14引用：4難度：0.9

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二、非選擇題

• 11．下圖表示從固體混合物中分離X的2種方案，請回答有關問題．
  
  （1）選用方案I時，X應該具有的性質是

   

  ，殘留物應該具有的性質是

   

  ；
  （2）選用方案Ⅱ從某金屬粉末（含有Au、Ag和Cu）中分離Au,加入的試劑是

   

  ，有關反應的化學方程式為

   

  ；
  （3）為提純某Fe₂O₃樣品（主要雜質有SiO₂、Al₂O₃），參照方案I和Ⅱ，請設計一種以框圖形式表示的實驗方案（注明物質和操作）

   

  ．
  組卷：187難度：0.5

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• 12．硅單質及其化合物應用范圍很廣．請回答下列問題：
  制備硅半導體材料必須先得到高純硅．三氯甲硅烷（SiHCl₃）還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產過程示意圖如圖所示：
  
  （1）寫出由純SiHCl₃制備高純硅的化學反應方程式：

   

  ．
  （2）整個制備過程必須嚴格控制無水無氧．SiHCl₃遇水劇烈反應生成H₂SiO₃、HCl和另一種物質，寫出配平的化學反應方程式：

   

  ；
  H₂還原SiHCl₃過程中若混入O₂，可能引起的后果是

   

  ．
  組卷：103引用：2難度：0.9

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