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硅單質及其化合物應用范圍很廣.請回答下列問題:
制備硅半導體材料必須先得到高純硅.三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過程示意圖如圖所示:
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(1)寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學反應方程式:
SiHCl3+H2
高溫
Si+3HCl
SiHCl3+H2
高溫
Si+3HCl

(2)整個制備過程必須嚴格控制無水無氧.SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、HCl和另一種物質,寫出配平的化學反應方程式:
SiHCl3+3H2O═H2SiO3↓+3HCl↑+H2
SiHCl3+3H2O═H2SiO3↓+3HCl↑+H2

H2還原SiHCl3過程中若混入O2,可能引起的后果是
氧氣與氫氣混合,可能引起爆炸
氧氣與氫氣混合,可能引起爆炸

【答案】SiHCl3+H2
高溫
Si+3HCl;SiHCl3+3H2O═H2SiO3↓+3HCl↑+H2↑;氧氣與氫氣混合,可能引起爆炸
【解答】
【點評】
聲明:本試題解析著作權屬菁優(yōu)網(wǎng)所有,未經(jīng)書面同意,不得復制發(fā)布。
發(fā)布:2024/6/27 10:35:59組卷:103引用:2難度:0.9
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