生產(chǎn)芯片的半導(dǎo)體材料有硅、鍺、砷化鎵等，應(yīng)用比較廣泛的是硅。硅可由石英砂（主要成分是二氧化硅）制得，制備高純硅的主要工藝流程如圖1所示：
資料：①SiHCl4能與H2O劇烈反應(yīng)，在空氣中易自燃；②粗SiHCl3（沸點(diǎn)33.0℃）中含有少量SiC14（沸點(diǎn)57.6℃）和HCl（沸點(diǎn)-84.7℃）
（1）流程①焦炭體現(xiàn)了 還原性還原性（填“氧化性”或“還原性”）。
（2）流程③提純SiHCl3的操作是 蒸餾蒸餾。
（3）流程④的化學(xué)反應(yīng)為置換反應(yīng)，寫(xiě)出其化學(xué)方程式：SiHCl3+H2 高溫 Si+3HClSiHCl3+H2 高溫 Si+3HCl。
流程④制備高純硅的裝置如圖2（熱源及夾持裝置略去）：
（4）若要從下列玻璃儀器中選擇部分來(lái)組裝A處的氣體發(fā)生裝置，需要的是 abgabg（填選項(xiàng)編號(hào)）：
a.分液漏斗
b.燒瓶
c.酒精燈
d.大試管
e.漏斗
f.燒杯
g.導(dǎo)管
裝置B中的試劑是 濃硫酸濃硫酸（填試劑名稱(chēng)）；裝置C中的燒瓶需要加熱，其目的是 使進(jìn)入燒瓶的液態(tài)SiHCl3變?yōu)闅怏w使進(jìn)入燒瓶的液態(tài)SiHCl3變?yōu)闅怏w。
（5）反應(yīng)一段時(shí)間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是 有固體物質(zhì)生成有固體物質(zhì)生成。
（6）為保證制備高純硅實(shí)驗(yàn)的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性，控制好反應(yīng)溫度以及 防止生成的Si被氧化防止生成的Si被氧化，防止H2與O2混合加熱發(fā)生爆炸防止H2與O2混合加熱發(fā)生爆炸，該流程中能夠循環(huán)利用的物質(zhì)是 HClHCl。
高溫
高溫
【考點(diǎn)】制備實(shí)驗(yàn)方案的設(shè)計(jì)．
【答案】還原性；蒸餾；SiHCl3+H2 Si+3HCl；abg；濃硫酸；使進(jìn)入燒瓶的液態(tài)SiHCl3變?yōu)闅怏w；有固體物質(zhì)生成；防止生成的Si被氧化；防止H2與O2混合加熱發(fā)生爆炸；HCl
高溫
【解答】
【點(diǎn)評(píng)】
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發(fā)布：2024/4/20 14:35:0組卷：9引用：1難度：0.5
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1．硫鐵礦燒渣是硫鐵礦生產(chǎn)硫酸過(guò)程中產(chǎn)生的工業(yè)廢渣（主要含F(xiàn)e2O3及少量SiO2、Al2O3、CaO、MgO等雜質(zhì)）．用該燒渣制取藥用輔料--紅氧化鐵的工藝流程如圖：
（1）在“還原焙燒”中產(chǎn)生的有毒氣體可能有．
（2）“酸浸”時(shí)間一般不超過(guò)20min,若在空氣中酸浸時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，溶液中Fe2+含量將下降，其原因是（用離子方程式表示）．
（3）根據(jù)下表數(shù)據(jù)：
在“除雜”步驟中，為除去Fe3+和Al3+，溶液的pH最大值應(yīng)小于氫氧化物 Al（OH）3 Mg（OH）2 Fe（OH）3 Fe（OH）2 開(kāi)始沉淀的pH 3.10 8.54 2.01 7.11 完全沉淀的pH 4.77 11.04 3.68 9.61 ，檢驗(yàn)Fe3+已經(jīng)除盡的試劑是；當(dāng)pH=5時(shí)，溶液中c（Al3+）=mol?L-1（已知常溫下Ksp[Al（OH）3]=2.0×10-33）．
（4）“中和合成”的目的是將溶液中Fe2+轉(zhuǎn)變?yōu)樘妓醽嗚F沉淀，則A的操作是．
（5）a g燒渣經(jīng)過(guò)上述工藝可得紅氧化鐵b g.藥典標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，制得的紅氧化鐵中含氧化鐵不得少于98.0%，則所選用的燒渣中鐵的質(zhì)量分?jǐn)?shù)應(yīng)不低于（用含a、b的表達(dá)式表示）．發(fā)布：2025/1/19 8:0:1組卷：114引用：4難度：0.5 -
2．硫鐵礦燒渣是硫鐵礦生產(chǎn)硫酸過(guò)程中產(chǎn)生的工業(yè)廢渣（主要含F(xiàn)e2O3及少量SiO2、Al2O3等雜質(zhì)）．用該燒渣制取藥用輔料--紅氧化鐵的工藝流程如下：
（1）在“還原焙燒”中產(chǎn)生的有毒氣體可能有．
（2）“酸浸”時(shí)間一般不超過(guò)20min,若在空氣中酸浸時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，溶液中Fe2+含量將下降，其原因是（用離子方程式表示）．
（3）根據(jù)下表數(shù)據(jù)：
在“除雜”步驟中，為除去Fe3+和Al3+，溶液的pH最大值應(yīng)小于氫氧化物 Al（OH）3 Fe（OH）3 Fe（OH）2 開(kāi)始沉淀的pH 3.10 2.01 7.11 完全沉淀的pH 4.77 3.68 9.61 ，檢驗(yàn)
Fe3+已經(jīng)除盡的試劑是．
（4）“中和合成”的目的是將溶液中Fe2+轉(zhuǎn)變?yōu)樘妓醽嗚F沉淀，則操作B是．
（5）煅燒A的反應(yīng)方程式是．
（6）a g燒渣經(jīng)過(guò)上述工藝可得紅氧化鐵b g.藥典標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，制得的紅氧化鐵中含氧化鐵不得少于98.0%，則所選用的燒渣中鐵的質(zhì)量分?jǐn)?shù)應(yīng)不低于（用含a、b的表達(dá)式表示）．發(fā)布：2025/1/19 8:0:1組卷：5引用：1難度：0.5 -
3．硫鐵礦燒渣是硫鐵礦生產(chǎn)硫酸過(guò)程中產(chǎn)生的工業(yè)廢渣（主要含F(xiàn)e2O3及少量SiO2、Al2O3、CaO、MgO等雜質(zhì)）．用該燒渣制取藥用輔料--紅氧化鐵的工藝流程如下：
（1）在“還原焙燒”中產(chǎn)生的有毒氣體可能有．
（2）“酸浸”時(shí)間一般不超過(guò)20min,若在空氣中酸浸時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，溶液中Fe2+含量將下降，其原因是（用離子方程式表示）．
（3）根據(jù)下表數(shù)據(jù)：
在“除雜”步驟中，為除去Fe3+和Al3+，溶液的pH最大值應(yīng)小于氫氧化物 Al（OH）3 Mg（OH）2 Fe（OH）3 Fe（OH）2 開(kāi)始沉淀的pH 3.10 8.54 2.01 7.11 完全沉淀的pH 4.77 11.04 3.68 9.61 ，常溫下，當(dāng)pH=5時(shí)，溶液中c（Al3+）=mol?L-1（已知常溫下Ksp[Al（OH）3]═2.0×10-33）．
（4）“中和合成”的目的是將溶液中Fe2+轉(zhuǎn)變?yōu)樘妓醽嗚F沉淀，則A的操作是．發(fā)布：2025/1/19 8:0:1組卷：12引用：1難度：0.5
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