2021-2022學(xué)年黑龍江省牡丹江一中高三（上）期中化學(xué)試卷
發(fā)布：2024/4/20 14:35:0
一、選擇題（每道題只有一個(gè)正確選項(xiàng)。1-18題每題2分：19-24.每題3分。共54分）
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1．下列物質(zhì)屬于純凈物的是（ ?。?/h2>
組卷：24引用：3難度：0.8 -
2．下列電解質(zhì)在熔融狀態(tài)下不導(dǎo)電的是（ ）
組卷：15引用：2難度：0.7 -
3．蒸餾操作中不需要用到的儀器是（ ?。?/h2>
組卷：11引用：2難度：0.9 -
4．關(guān)于反應(yīng)：2Cu（IO3）2+24KI+12H2SO4═2CuI↓+13I2+12K2SO4+12H2O，下列說(shuō)法正確的是（ ?。?/h2>
組卷：17引用：2難度：0.7 -
5．下列說(shuō)法正確的是（ ?。?/h2>
組卷：4引用：1難度：0.8 -
6．下列說(shuō)法不正確的是（ ?。?/h2>
組卷：3引用：1難度：0.5 -
7．短周期元素的離子W2+、X+、Y2-、Z-都具有相同的電子層結(jié)構(gòu)，下列推斷正確的是（ ?。?/h2>
組卷：11引用：4難度：0.7 -
8．下列說(shuō)法正確的是（ ?。?/h2>
組卷：6引用：1難度：0.6 -
9．設(shè)NA是阿伏加德羅常數(shù)的值。下列說(shuō)法正確的是（ ?。?/h2>
組卷：5引用：1難度：0.7
二、非選擇題
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28．銅質(zhì)電路板可采用酸性蝕刻與堿性蝕刻兩種方法，將二者的廢液混合可實(shí)現(xiàn)回收再利用，其主要流程如圖。
已知：①水合肼N2H4?H2O具有強(qiáng)還原性，易被氧化為N2。
②Cu2++4NH3?Cu（NH3）42+
（1）蝕刻
①將酸性蝕刻銅的離子方程式補(bǔ)充完整：
Cu+H2O2++?CuCl42-+。
②關(guān)于蝕刻的下列說(shuō)法正確的是。
A．堿性蝕刻和酸性蝕刻分別利用了O2、H2O2的氧化性
B．酸性蝕刻時(shí)鹽酸的主要作用是增強(qiáng)溶液的酸性
C．用H2O2、H2SO4、NaCl也可以使Cu溶解
（2）濾液1的pH約為5，其中除少量Cu2+，還大量存在的離子是。
（3）除銅
①利用水合肼N2H4?H2O還原Cu2+的離子方程式是。
②已知該反應(yīng)瞬間完成，濾渣成分只有Cu。測(cè)得銅去除率、水合肼還原能力隨溶液pH的變化情況如圖所示。由圖可知，隨溶液pH增大，銅去除率先增加后減小，結(jié)合圖給信息和已知信息分析其原因：。
組卷：22引用：2難度：0.5 -
29．KI用于分析試劑、感光材料制藥和食品添加劑等。
制備原理如下：反應(yīng)①3I2+6KOH═KIO3+5KI+3H2O
反應(yīng)②3H2S+KIO3═3S↓+KI+3H2O
按照下列實(shí)驗(yàn)過(guò)程，請(qǐng)回答有關(guān)問(wèn)題。
（1）啟普發(fā)生器中發(fā)生的化學(xué)方程式為，用該裝置還可以制備（填一種氣體化學(xué)式）。
（2）關(guān)閉啟普發(fā)生器活塞，打開(kāi)滴液漏斗的活塞，滴入30%的KOH溶液，待觀(guān)察到（填現(xiàn)象），停止滴入KOH溶液；然后（填操作），待KIO3混合液和NaOH溶液氣泡速率接近相同時(shí)停止通氣。
（3）滴入硫酸溶液，并對(duì)KI混合液水浴加熱，其目的是。
（4）把KI混合液倒入燒杯，加入碳酸鋇，在過(guò)濾器中過(guò)濾，過(guò)濾得到的沉淀中除含有過(guò)量碳酸鋇外，還有硫酸鋇和，其中加入碳酸鋇的作用是。合并濾液和洗液，蒸發(fā)至析出結(jié)晶，濾出經(jīng)干燥得成品。
（5）如果得到3.2g硫單質(zhì)，則理論上制得的KI為g。組卷：63引用：6難度：0.6