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探究硫及其化合物的轉(zhuǎn)化,有重要的現(xiàn)實(shí)意義。如將H2S、SO2等污染物吸收和轉(zhuǎn)化是保護(hù)環(huán)境和資源利用的有效措施。
(1)H2S高溫裂解轉(zhuǎn)化為H2和硫蒸氣:2H2S(g)?2H2(g)+S2(g)ΔH。
①ΔH=
4b-a-4c
4b-a-4c
kJ/mol(用“a、b、c”表示)。
化學(xué)鍵 S=S H-S H-H
鍵能/(kJ/mol) a b c
②在恒溫恒容密閉容器中,不能說明該反應(yīng)已達(dá)平衡狀態(tài)的是
A
A
(填字母)。
A.混合氣體的密度不再改變
B.容器中總壓強(qiáng)不再改變
C.2v(H2S)=v(S2
D.
c
H
2
?
c
S
2
c
2
H
2
S
不再改變
(2)為研究煙氣中SO2、NO2的變化,一定條件下向密閉容器中充入等物質(zhì)的量的SO2和NO2,發(fā)生反應(yīng):SO2(g)+NO2(g)?NO(g)+SO3(g)ΔH=-41.8kJ/mol。不同溫度和投料量下,測(cè)得平衡時(shí)壓強(qiáng)對(duì)數(shù)lgp(SO3)和lgp(NO2)的關(guān)系,如圖所示。
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①T1
T2(填“>”或“<”)。
②溫度T2時(shí),平衡常數(shù)Kp
1.0×10-4
1.0×10-4
。(Kp為以平衡分壓代替平衡濃度計(jì)算的平衡常數(shù))
③a、b兩點(diǎn)體系總壓強(qiáng)pa與pb的比值為
1
10
1
10
。
(3)已知φ(+)/φ(-)表示氧化還原反應(yīng)的還原/氧化半反應(yīng)電極電勢(shì),電勢(shì)差E=φ(+)-φ(-)越大,反應(yīng)的自發(fā)程度越大,如反應(yīng)Zn+Cu2+=Zn2++Cu的E=φ(Cu2+/Cu)-φ(Zn2+/Zn)。
①含硫微粒各電對(duì)的電極電勢(shì)與產(chǎn)物濃度的關(guān)系如圖所示,將體系中自發(fā)程度最大的反應(yīng)記為ⅰ,反應(yīng)ⅰ的離子方程式為
2
SO
2
-
3
+2H2S=S2
O
2
-
3
+2S↓+3H2O
2
SO
2
-
3
+2H2S=S2
O
2
-
3
+2S↓+3H2O
。
菁優(yōu)網(wǎng)
②寫出SO2的一項(xiàng)用途
防腐劑
防腐劑

【答案】4b-a-4c;A;<;1.0×10-4
1
10
;2
SO
2
-
3
+2H2S=S2
O
2
-
3
+2S↓+3H2O;防腐劑
【解答】
【點(diǎn)評(píng)】
聲明:本試題解析著作權(quán)屬菁優(yōu)網(wǎng)所有,未經(jīng)書面同意,不得復(fù)制發(fā)布。
發(fā)布:2024/7/25 8:0:9組卷:16引用:1難度:0.5
相似題
  • 菁優(yōu)網(wǎng)1.在催化劑作用下,可逆反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)在溫度為323K和343K時(shí)SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間變化的結(jié)果如圖所示(已知:反應(yīng)速率v=v-v=kx2SiHCl3-kxSiH2Cl2xSiCl4,k、k分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù))。下列說法錯(cuò)誤的是(  )

    發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:40引用:1難度:0.5
  • 菁優(yōu)網(wǎng)2.甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域,三氯氫硅(SiHCl3)是制備甲硅烷的重要原料?;卮鹣铝袉栴}:
    (1)工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有:
    Si(s)+4HCl(g)═SiCl4(g)+2H2(g)△H=-241kJ/mol
    SiHCl3(g)+HCl(g)═SiCl4(g)+H2(g)△H=-31kJ/mol
    以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是
     

    (2)鋁鋰形成化合物L(fēng)iAlH4既是金屬儲(chǔ)氫材料又是有機(jī)合成中的常用試劑,遇水能得到無色溶液并劇烈分解釋放出H2,請(qǐng)寫出其水解反應(yīng)化學(xué)方程式
     
    。LiAlH4在化學(xué)反應(yīng)中通常作
     
    (填“氧化”或“還原”)劑。工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰(LiAlH4)制甲硅烷,反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為
     

    (3)三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)為歧化制甲硅烷過程的關(guān)鍵步驟,此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑,在不同反應(yīng)溫度下測(cè)得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
    ①353.15K時(shí),平衡轉(zhuǎn)化率為
     
    ,該反應(yīng)是
     
    反應(yīng)(填“放熱”“吸熱”)。
    ②323.15K時(shí),要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間,可采取的最佳措施是
     

    (4)比較a、b處反應(yīng)速率的大小:va
     
    v(填“>”“<”或“=”)。已知反應(yīng)速率v=k1x2_SiHCl3
    v=k2x2_SiH2Cl2xSiCl4,k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù),與反應(yīng)溫度有關(guān),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù),則在353.15K時(shí)
    k
    1
    k
    2
    =
     
    (保留3位小數(shù))。
    (5)硅元素最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)的水化物是H2SiO3,室溫下,0.1mol/L的硅酸鈉溶液和0.1mol/L的碳酸鈉溶液,堿性更強(qiáng)的是
     
    ,其原因是
     

    已知:H2SiO3:Ka1=2.0×10-10、Ka2=1.0×10-12,H2CO3:Ka1=4.3×10-7、Ka2=5.6×10-11

    發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:61引用:2難度:0.2
  • 菁優(yōu)網(wǎng)3.甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域,三氯氫硅(SiHCl3)是制備甲硅烷的重要原料。回答下列問題:
    (1)工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有:
    ①Si(s)+4HCl(g)═SiCl4( g)+2H2(g)△H=-24lkJ/mol
    ②SiHCl3 (g)+HCl(g)═SiCl4 (g)+H2(g)△H=-3lkJ/mol
    以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是
     
    。
    (2)工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰(LiAlH4)制甲硅烷,反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為
     

    (3)三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)為歧化制甲硅烷過程的關(guān)鍵步驟,此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑,在不同反應(yīng)溫度下測(cè)得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
    ①353.15K時(shí),平衡轉(zhuǎn)化率為
     
    。該反應(yīng)是
     
    反應(yīng)(填“放熱”或“吸熱”)。②323.15K時(shí),要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間,可采取的措施有
     
    。(答一種即可)
    ③比較a、b處反應(yīng)速率的大小:va
     
    vb(填“>”“<”或“=”)。已知反應(yīng)速率v=k1x2SiHCl3 v=k2xSiH2Cl2 xSiCl4,k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù),與反應(yīng)溫度有關(guān),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù),則在353.15K時(shí)
    k
    1
    k
    2
    =
     
    (保留3位小數(shù))。

    發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:19引用:1難度:0.5
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