氮的氧化物是大氣污染物之一，研究氮氧化物的反應(yīng)機(jī)理對緩解環(huán)境污染有重要意義，回答下列問題。
（1）碘蒸氣的存在能大幅度提高N2O的分解速率，反應(yīng)歷程為：
第一步：I2（g）→2I（g） （快反應(yīng)）
第二步：I（g）+N2O（g）→N2（g）+IO（g） （慢反應(yīng)）
第三步：IO（g）+N2O（g）→N2（g）+O2（g）+I2（g） （快反應(yīng)）
實(shí)驗(yàn)表明：含碘時N2O分解速率方程v=k?c（N2O）?[c（I2）]0.5 （k 為速率常數(shù)）。下列表述正確的是 ADAD。
A.升高溫度，第一步向右進(jìn)行的程度變大
B.第二步的活化能比第三步小
C.IO為反應(yīng)的催化劑
D.N2O分解反應(yīng)的速率與是否含碘蒸氣有關(guān)
（2）為探究溫度及不同催化劑對反應(yīng)2NO（g）+2CO（g）?N2（g）+2CO2（g） ΔH=-746.5kJ/mol的影響，分別在不同溫度、不同催化劑下，保持其它初始條件不變重復(fù)實(shí)驗(yàn)，在相同時間內(nèi)測得NO轉(zhuǎn)化率與溫度的關(guān)系如圖1所示。在催化劑乙作用下，圖中M點(diǎn)對應(yīng)的速率（對應(yīng)溫度400°C）v（正）＞＞ v（逆）（填“＞”、“＜”或“=”），溫度升高后，兩種催化劑條件下NO轉(zhuǎn)化效率均明顯降低，原因可能是 溫度升高催化劑活性降低溫度升高催化劑活性降低。
（3）實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)，NO易發(fā)生二聚反應(yīng)2NO（g）?N2O2 （g）。向某恒容的容器中充入一定量的NO進(jìn)行反應(yīng)，測得溫度分別為T1和T2時NO的轉(zhuǎn)化率隨時間變化的結(jié)果如圖2所示。則T1＜＜T2（填“＞”、“＜”或“=”）。溫度為T2時，達(dá)到平衡時體系的總壓強(qiáng)為200kPa,X點(diǎn)對應(yīng)的平衡常數(shù)Kp=0.030.03 kPa-1 （用分壓表示）；提高NO平衡轉(zhuǎn)化率的條件為 降低溫度降低溫度（寫出其中一點(diǎn)）。
（4）NH3催化還原NO是重要的煙氣脫硝技術(shù)，研究發(fā)現(xiàn)以Fe3+為主體催化劑時可能發(fā)生的反應(yīng)過程如圖3，寫出脫硝過程總反應(yīng)的化學(xué)方程式：4NH3+4NO+O2 催化劑 4N2+6H2O4NH3+4NO+O2 催化劑 4N2+6H2O。
催化劑
催化劑
【答案】AD；＞；溫度升高催化劑活性降低；＜；0.03；降低溫度；4NH3+4NO+O2 4N2+6H2O
催化劑
【解答】
【點(diǎn)評】
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發(fā)布：2024/6/27 10:35:59組卷：61引用：1難度：0.6
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1．甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域，三氯氫硅（SiHCl3）是制備甲硅烷的重要原料?；卮鹣铝袉栴}：
（1）工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時伴隨發(fā)生的反應(yīng)有：
Si（s）+4HCl（g）═SiCl4（g）+2H2（g）△H=-241kJ/mol
SiHCl3（g）+HCl（g）═SiCl4（g）+H2（g）△H=-31kJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是。
（2）鋁鋰形成化合物L(fēng)iAlH4既是金屬儲氫材料又是有機(jī)合成中的常用試劑，遇水能得到無色溶液并劇烈分解釋放出H2，請寫出其水解反應(yīng)化學(xué)方程式。LiAlH4在化學(xué)反應(yīng)中通常作（填“氧化”或“還原”）劑。工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰（LiAlH4）制甲硅烷，反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為。
（3）三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）為歧化制甲硅烷過程的關(guān)鍵步驟，此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑，在不同反應(yīng)溫度下測得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時，平衡轉(zhuǎn)化率為，該反應(yīng)是反應(yīng)（填“放熱”“吸熱”）。
②323.15K時，要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時間，可采取的最佳措施是。
（4）比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐avb （填“＞”“＜”或“=”）。已知反應(yīng)速率v正=k1x2_SiHCl3，
v逆=k2x2_SiH2Cl2xSiCl4，k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù)，與反應(yīng)溫度有關(guān)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)，則在353.15K時=k1k2（保留3位小數(shù)）。
（5）硅元素最高價氧化物對應(yīng)的水化物是H2SiO3，室溫下，0.1mol/L的硅酸鈉溶液和0.1mol/L的碳酸鈉溶液，堿性更強(qiáng)的是，其原因是。
已知：H2SiO3：Ka1=2.0×10-10、Ka2=1.0×10-12，H2CO3：Ka1=4.3×10-7、Ka2=5.6×10-11發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：61引用：2難度：0.2 -
2．在催化劑作用下，可逆反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）在溫度為323K和343K時SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時間變化的結(jié)果如圖所示（已知：反應(yīng)速率v=v正-v逆=k正x2SiHCl3-k逆xSiH2Cl2xSiCl4，k正、k逆分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)）。下列說法錯誤的是（ ）發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：40引用：1難度：0.5 -
3．甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域，三氯氫硅（SiHCl3）是制備甲硅烷的重要原料?；卮鹣铝袉栴}：
（1）工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時伴隨發(fā)生的反應(yīng)有：
①Si（s）+4HCl（g）═SiCl4（ g）+2H2（g）△H=-24lkJ/mol
②SiHCl3 （g）+HCl（g）═SiCl4 （g）+H2（g）△H=-3lkJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是。
（2）工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰（LiAlH4）制甲硅烷，反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為。
（3）三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）為歧化制甲硅烷過程的關(guān)鍵步驟，此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑，在不同反應(yīng)溫度下測得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時，平衡轉(zhuǎn)化率為。該反應(yīng)是反應(yīng)（填“放熱”或“吸熱”）。②323.15K時，要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時間，可采取的措施有。（答一種即可）
③比較a、b處反應(yīng)速率的大小：vavb（填“＞”“＜”或“=”）。已知反應(yīng)速率v正=k1x2SiHCl3 v逆=k2xSiH2Cl2 xSiCl4，k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù)，與反應(yīng)溫度有關(guān)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)，則在353.15K時=k1k2（保留3位小數(shù)）。發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：19引用：1難度：0.5
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