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離子注入是芯片技術(shù)中的一道重要工序。如圖所示是離子注入工作原理示意圖,離子經(jīng)電場加速后沿水平方向進入速度選擇器,然后通過磁分析器,選擇出特定比荷的離子,經(jīng)偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)后注入處在水平面內(nèi)的晶圓片。速度選擇器和磁分析器中的勻強磁場的磁感應(yīng)強度大小均為B,方向均垂直紙面向外;速度選擇器和偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)中的勻強電場場強大小均為E,方向分別為豎直向上和垂直紙面向外。磁分析器截面是內(nèi)外半徑分別為R1=R和R2=2R的四分之一圓環(huán),其兩端中心位置M和N處各有一個小孔;偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)中電場的分布區(qū)域是一棱長為R的正方體,其底面與晶圓片所在水平面平行。當偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)不加電場時,離子恰好豎直注入到晶圓片上的O點。整個系統(tǒng)置于真空中,不計離子重力。求:
(1)判斷離子的電性和離子通過速度選擇器的速度大小v;
(2)磁分析器選擇出來離子的比荷
q
m

(3)偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)加電場時,要求離子從偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)底面飛出,若晶圓片所在的水平面是半徑為R的圓面,為了使偏轉(zhuǎn)粒子能打到晶圓片的水平面上,晶圓片平面到偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)底面的距離應(yīng)滿足什么條件?菁優(yōu)網(wǎng)

【答案】見試題解答內(nèi)容
【解答】
【點評】
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發(fā)布:2024/6/27 10:35:59組卷:44引用:1難度:0.4
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    y
    =
    x
    2
    4
    ,在曲線上有一點P,其x軸坐標x=2m,在y軸上有一Q點,其坐標為
    0
    1
    +
    2
    3
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