當(dāng)前位置:
試題詳情
硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制 備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過(guò)程示意圖如圖:
①寫(xiě)出由純SiHCl3,制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式_SiHCl3+H2 高溫 Si+3HClSiHCl3+H2 高溫 Si+3HCl。
②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫(xiě)出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式SiHCl3+3H2O═H2SiO3↓+H2↑+3HClSiHCl3+3H2O═H2SiO3↓+H2↑+3HCl;H2還原SiHCl3過(guò)程中若混入O2,可能引起的后果是爆炸爆炸。
(2)石英砂的主要成分是二氧化硅,高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料----光導(dǎo)纖維。二氧化硅和二氧化碳一樣,也能與氫氧化鈉溶液生成硅酸鈉(其水溶液稱(chēng)水玻璃)和水。請(qǐng)寫(xiě)出二氧化硅與氫氧化鈉溶液的化學(xué)方程式2NaOH+SiO2=Na2SiO3+H2O2NaOH+SiO2=Na2SiO3+H2O。
高溫
高溫
【答案】SiHCl3+H2 Si+3HCl;SiHCl3+3H2O═H2SiO3↓+H2↑+3HCl;爆炸;2NaOH+SiO2=Na2SiO3+H2O
高溫
【解答】
【點(diǎn)評(píng)】
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發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:23引用:1難度:0.5
相似題
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1.氧化鎂在醫(yī)藥等行業(yè)應(yīng)用廣泛。實(shí)驗(yàn)室以菱鎂礦(主要成分為MgCO3,含少量FeCO3,其他雜質(zhì)不溶于水和酸) 為原料制備高純氧化鎂的實(shí)驗(yàn)流程如圖1:
(1)為了提高“酸浸”的效果,可采取的措施有:適當(dāng)升高溫度、
(2)“氧化”過(guò)程中,將FeSO4全部轉(zhuǎn)化為Fe2(SO4)3,然后加氨水,調(diào)節(jié)溶液的pH范圍為對(duì)應(yīng)離子 Fe3+ Fe2+ Mg2+ 開(kāi)始沉淀時(shí)的pH 2.7 7.9 9.4 完全沉淀時(shí)的pH 3.7 9.6 11.4
(4)煅燒過(guò)程存在以下反應(yīng):
2MgSO4+C2MgO+2SO2↑+CO2↑800℃
MgSO4+CMgO+SO2↑+CO↑800℃
MgSO4+3CMgO+S↑+3CO↑800℃
已知:①硫在常溫下是一種淡黃色固體,硫的熔點(diǎn)約為115.2℃,沸點(diǎn)約為444.7℃;②高錳酸鉀溶液與SO2反應(yīng)會(huì)褪色,且只吸收SO2,不吸收CO2; ③堿溶液既吸收SO2,又吸收CO2.利用如圖2裝置對(duì)煅燒產(chǎn)生的氣體進(jìn)行檢驗(yàn)并收集。
①集氣瓶B中盛放的溶液是
a.Ca(OH)2溶液
b.KMnO4溶液
c.NaOH溶液
d.BaCl2溶液
②裝置D的作用是發(fā)布:2024/12/25 16:0:1組卷:127引用:2難度:0.5 -
2.下列從原料及有關(guān)試劑分別制取相應(yīng)的最終產(chǎn)物的設(shè)計(jì)中,理論上正確、操作上可行、經(jīng)濟(jì)上合理的是( ?。?/h2>
A.C CO點(diǎn)燃CO2CuO△Na2CO3溶液NaOH溶液B.Cu Cu(NO3)2溶液AgNO3溶液Cu(OH)2NaOH溶液C.CaO Ca(OH)2溶液H2ONaOH溶液Na2CO3溶液D.Fe Fe2O3點(diǎn)燃Fe2(SO4)3溶液H2SO4溶液發(fā)布:2024/12/25 15:30:1組卷:657引用:25難度:0.7 -
3.波爾多液含氫氧化鈣、氫氧化銅和硫酸鈣等物質(zhì),是農(nóng)業(yè)上常用的殺菌劑。一種生產(chǎn)波爾多液的工藝流程如圖。
(1)“煅燒”的化學(xué)方程式為
(2)“混合”時(shí)不能用鐵制容器,原因是
(3)“混合”時(shí)需不斷攪拌,目的是
(4)“混合”過(guò)程中發(fā)生復(fù)分解反應(yīng)的化學(xué)方程式為
(5)“混合”后得到的波爾多液溫度明顯高于室溫,原因是
(6)用發(fā)布:2024/12/25 17:30:2組卷:50引用:2難度:0.5
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