中國芯片蝕刻技術(shù)國際領(lǐng)先。NF₃進行硅芯片蝕刻時的產(chǎn)物均為氣體，在蝕刻物表面不留任何殘留物。該反應(yīng)微觀示意圖如下，下列說法正確的是（　　）

A．上述四種物質(zhì)均由分子構(gòu)成

B．反應(yīng)前后分子、原子的種類和數(shù)目均不變

C．反應(yīng)生成的丙和丁微粒數(shù)之比為3：2

D．空氣中物質(zhì)丁的質(zhì)量分數(shù)為78%

【答案】C

【解答】

【點評】

聲明：本試題解析著作權(quán)屬菁優(yōu)網(wǎng)所有，未經(jīng)書面同意，不得復(fù)制發(fā)布。

發(fā)布：2024/12/24 9:0:1組卷：97引用：7難度：0.7

相似題

1．2022年4月2日，資陽燃氣電站新建工程開始建設(shè)，項目建成后年發(fā)電量可達35億度。燃氣發(fā)電過程中涉及到的主要化學反應(yīng)為甲烷的燃燒，其微觀示意圖如圖所示。下列有關(guān)說法不正確的是（　?。?br />

A．為使甲烷完全燃燒應(yīng)提供適當過量的空氣

B．甲烷燃燒需要點燃，說明甲烷燃燒是吸收熱量的反應(yīng)

C．圖示可知該反應(yīng)前后分子個數(shù)沒有變化

D．圖示可知化學反應(yīng)中原子的種類沒有發(fā)生變化

發(fā)布：2024/12/24 12:0:2組卷：127引用：2難度：0.6

A．該反應(yīng)涉及四種化合物

B．該反應(yīng)屬于置換反應(yīng)

C．參加反應(yīng)的甲、乙分子個數(shù)比為 1﹕1

D．生成丙、丁物質(zhì)的質(zhì)量比為 22﹕9

發(fā)布：2024/12/24 12:0:2組卷：53引用：2難度：0.8

把好題分享給你的好友吧~~