如圖1是地殼中含量較大的九種元素分布圖，圖中X、Y、Z分別表示不同元素。
回答下列問題：
（1）X的名稱為 氧氧。
（2）Y的氧化物屬于 兩性兩性氧化物。（填“酸性”、“兩性”或“堿性”）。
（3）常用ZCl3溶液作為刻制印刷電路時的“腐蝕液”，該反應的離子方程式為 2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+，區(qū)別ZCl3溶液和Z（OH）3膠體的方法是 丁達爾效應丁達爾效應。
（4）由粗硅制備硅烷（SiH4）的基本流程如圖2所示（反應條件均省略）：
已知：反應Ⅰ、Ⅱ的化學方程式分別為Si+3HCl═SiHCl3+A，SiHCl3+B═Si+3HCl（均已配平）。
①A的化學式為 H2H2。
②反應Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ中，有 33個屬于氧化還原反應。
③反應Ⅳ中生成的SiH4和NH3兩種氣體的物質的量之比為 1：41：4。
【答案】氧；兩性；2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+；丁達爾效應；H2；3；1：4
【解答】
【點評】
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