硅鐵合金廣泛應(yīng)用于冶金工業(yè),可用于鑄鐵時的脫氧劑、添加劑等,回答下列問題:
(1)基態(tài)Fe原子的核外電子排布式為 1s22s22p63s23p63d64s21s22s22p63s23p63d64s2,基態(tài)Si原子電子占據(jù)最高能級的電子云輪廓圖為 啞鈴形啞鈴形形。
(2)已知氫的電負(fù)性為2.1,硅的電負(fù)性為1.8,SiH4分子中氫元素的化合價為 -1-1。
(3)SiCl4 分子的中心原子的價層電子對數(shù)為 44,分子的立體構(gòu)型為 正四面體正四面體;
四鹵化硅的沸點如下,分析其變化規(guī)律及原因 熔沸點依次升高;分子結(jié)構(gòu)相似,分子量依次增大,分子間作用力逐漸增強(qiáng)熔沸點依次升高;分子結(jié)構(gòu)相似,分子量依次增大,分子間作用力逐漸增強(qiáng)。
SiF4 | SiCl4 | SiBr4 | SiI4 | |
沸點/K | 187.4 | 330.1 | 408 | 460.6 |
6
6
;[Fe(H2O)4(en)]2+的配位原子為 O、N
O、N
。(5)在硅酸鹽中,SiO44- 四面體(圖a)通過共用項角氧離子可形成多種結(jié)構(gòu)形式。圖b為一種多硅酸根,其中Si原子的雜化形式為
sp3
sp3
,化學(xué)式為 Si2O52-
Si2O52-
。圖a | 圖b |
【答案】1s22s22p63s23p63d64s2;啞鈴形;-1;4;正四面體;熔沸點依次升高;分子結(jié)構(gòu)相似,分子量依次增大,分子間作用力逐漸增強(qiáng);6;O、N;sp3;Si2O52-
【解答】
【點評】
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發(fā)布:2024/6/27 10:35:59組卷:29引用:1難度:0.5
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1.鐵及其化合物在生產(chǎn)生活及科學(xué)研究方面應(yīng)用非常廣泛。
(1)基態(tài)Fe原子的價層電子的電子排布圖為
(2)(NH4)2Fe(SO4)2?6H2O俗稱摩爾鹽
①NH4+電子式為
②N、O兩元素的第一電離能由大到小的順序為
③SO42-中S原子的雜化方式為
(3)K3[Fe(CN)6]晶體中中心原子的配位數(shù)為
(4)FeS2晶體的晶胞如圖(c)所示。晶胞邊長為a nm、FeS2相對式量為M,阿伏加德羅常數(shù)的值為NA,其晶體密度的計算表達(dá)式為發(fā)布:2025/1/5 8:0:1組卷:7引用:1難度:0.7 -
2.碳及其化合物有著重要用途。回答下列問題:
(1)基態(tài)碳原子的價層電子排布圖為
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(3)甲烷、水、氨氣中C、O、N原子均采用sp3雜化方式,VSEPR模型均為正四面體構(gòu)型,比較三者鍵角的大小
(4)C60室溫下為紫紅色固體,不溶于水,能溶于四氯化碳等非極性溶劑。據(jù)此判斷C60的晶體類型是
(5)C60晶胞結(jié)構(gòu)如圖,C60分子處于頂點和面心。已知:C60晶胞棱長為14.20? (1?=10-8cm),則C60的晶體密度為
C60體中存在正四面體空隙(例如1、3、6、7四點構(gòu)成)和正八面體空隙(例如3、6、7、8、9、12六點構(gòu)成),則平均每一個C60晶胞中有發(fā)布:2025/1/5 8:0:1組卷:53引用:2難度:0.4 -
3.A、B、C、D、E、F是元素周期表中前四周期元素,且原子序數(shù)依次增大,其相關(guān)信息如下:
①A的周期序數(shù)等于其主族序數(shù);
②B、D原子的L層中都有兩個未成對電子;
③E元素原子最外層電子排布式為(n+1)Sn(n+1)Pn-1;
④F原子有四個能層,K、L、M全充滿,最外層只有一個電子.
試回答下列問題:
(1)基態(tài)E原子中,電子占據(jù)的最高能層符號為
(2)B、C、D的電負(fù)性由大到小的順序為
(3)B和D分別與A形成的化合物的穩(wěn)定性:BA4小于A2D,原因是
(4)以E、F的單質(zhì)為電極,組成如圖1所示的裝置,E極的電極反應(yīng)式為
(5)向盛有F的硫酸鹽FSO4的試管里逐滴加入氨水,首先出現(xiàn)藍(lán)色沉淀,繼續(xù)滴加氨水,藍(lán)色沉淀溶解,得到深藍(lán)色溶液,再向深藍(lán)色透明溶液中加入乙醇,析出深藍(lán)色晶體.藍(lán)色沉淀溶解的離子方程式為
(6)F的晶胞結(jié)構(gòu)(面心立方)如圖2所示:已知兩個最近的F的距離為acm,F的密度為發(fā)布:2025/1/18 8:0:1組卷:14引用:2難度:0.5
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