當(dāng)前位置：
試題詳情
（1）一定溫度下，冰醋酸加水稀釋過(guò)程中溶液的導(dǎo)電能力如圖所示。請(qǐng)完成下列問(wèn)題：
①“O”點(diǎn)為什么不導(dǎo)電？無(wú)水不電離，無(wú)自由移動(dòng)的離子無(wú)水不電離，無(wú)自由移動(dòng)的離子。
②a、b、c三點(diǎn)中醋酸的電離度最大的點(diǎn)是cc點(diǎn)。
（2）利用NH3的還原性可消除氮氧化物的污染，相關(guān)熱化學(xué)方程式如下：
N2（g）+O2（g）=2NO（g）△H1=229.3kJ?mol-1
4NH3（g）+5O2（g）=4NO（g）+6H2O（g）△H2=-906.5kJ?mol-1
4NH3（g）+6NO（g）=5N2（g）+6H2O（l）△H3
則△H3=-2053.0-2053.0kJ?mol-1。
（3）電解法處理含氮氧化物廢氣，可回收硝酸，具有較高的環(huán)境效益和經(jīng)濟(jì)效益。實(shí)驗(yàn)室模擬電解法吸收NOx的裝置如下圖所示（圖中電極均為石墨電極）。若用NO2氣體進(jìn)行模擬電解法吸收實(shí)驗(yàn)。
①寫(xiě)出電解時(shí)NO2發(fā)生反應(yīng)的電極反應(yīng)式：NO2+H2O-e-=2H++NO3-NO2+H2O-e-=2H++NO3-。
②若有標(biāo)準(zhǔn)狀況下2.24 LNO2被吸收，通過(guò)陽(yáng)離子交換膜（只允許陽(yáng)離子通過(guò)）的H+為0.10.1mol。
（4）T℃時(shí)，體積均為0.5 L的兩個(gè)恒容密閉容器中發(fā)生可逆反應(yīng)：
2A（g）+B（g）?2C（g）△H=-QkJ/mol（Q＞0）。保持溫度不變，實(shí)驗(yàn)測(cè)得起始和平衡時(shí)的有關(guān)數(shù)據(jù)如下表：
| 容器編號(hào) | 起始時(shí)各物質(zhì)物質(zhì)的量/mol | 達(dá)到平衡時(shí)體系能量的變化 | ||
| A | B | C | ||
| ① | 2 | 1 | 0 | 0.75Q kJ |
| ② | 0.4 | 0.2 | 1.6 | |
18
18
。②容器②中達(dá)到平衡時(shí)吸收的熱量為
0.05Q
0.05Q
kJ。【答案】無(wú)水不電離，無(wú)自由移動(dòng)的離子；c；-2053.0；NO2+H2O-e-=2H++NO3-；0.1；18；0.05Q
【解答】
【點(diǎn)評(píng)】
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發(fā)布：2024/11/22 8:0:1組卷：5引用：1難度：0.2
相似題
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1．在催化劑作用下，可逆反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）在溫度為323K和343K時(shí)SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間變化的結(jié)果如圖所示（已知：反應(yīng)速率v=v正-v逆=k正x2SiHCl3-k逆xSiH2Cl2xSiCl4，k正、k逆分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)）。下列說(shuō)法錯(cuò)誤的是（ ）發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：40引用：1難度：0.5 -
2．甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車(chē)領(lǐng)域，三氯氫硅（SiHCl3）是制備甲硅烷的重要原料?；卮鹣铝袉?wèn)題：
（1）工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有：
Si（s）+4HCl（g）═SiCl4（g）+2H2（g）△H=-241kJ/mol
SiHCl3（g）+HCl（g）═SiCl4（g）+H2（g）△H=-31kJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是。
（2）鋁鋰形成化合物L(fēng)iAlH4既是金屬儲(chǔ)氫材料又是有機(jī)合成中的常用試劑，遇水能得到無(wú)色溶液并劇烈分解釋放出H2，請(qǐng)寫(xiě)出其水解反應(yīng)化學(xué)方程式。LiAlH4在化學(xué)反應(yīng)中通常作（填“氧化”或“還原”）劑。工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰（LiAlH4）制甲硅烷，反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為。
（3）三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）為歧化制甲硅烷過(guò)程的關(guān)鍵步驟，此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑，在不同反應(yīng)溫度下測(cè)得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時(shí)，平衡轉(zhuǎn)化率為，該反應(yīng)是反應(yīng)（填“放熱”“吸熱”）。
②323.15K時(shí)，要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間，可采取的最佳措施是。
（4）比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐avb （填“＞”“＜”或“=”）。已知反應(yīng)速率v正=k1x2_SiHCl3，
v逆=k2x2_SiH2Cl2xSiCl4，k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù)，與反應(yīng)溫度有關(guān)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)，則在353.15K時(shí)=k1k2（保留3位小數(shù)）。
（5）硅元素最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)的水化物是H2SiO3，室溫下，0.1mol/L的硅酸鈉溶液和0.1mol/L的碳酸鈉溶液，堿性更強(qiáng)的是，其原因是。
已知：H2SiO3：Ka1=2.0×10-10、Ka2=1.0×10-12，H2CO3：Ka1=4.3×10-7、Ka2=5.6×10-11發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：61引用：2難度：0.2 -
3．甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車(chē)領(lǐng)域，三氯氫硅（SiHCl3）是制備甲硅烷的重要原料?；卮鹣铝袉?wèn)題：
（1）工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有：
①Si（s）+4HCl（g）═SiCl4（ g）+2H2（g）△H=-24lkJ/mol
②SiHCl3 （g）+HCl（g）═SiCl4 （g）+H2（g）△H=-3lkJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是。
（2）工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰（LiAlH4）制甲硅烷，反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為。
（3）三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）為歧化制甲硅烷過(guò)程的關(guān)鍵步驟，此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑，在不同反應(yīng)溫度下測(cè)得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時(shí)，平衡轉(zhuǎn)化率為。該反應(yīng)是反應(yīng)（填“放熱”或“吸熱”）。②323.15K時(shí)，要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間，可采取的措施有。（答一種即可）
③比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐avb（填“＞”“＜”或“=”）。已知反應(yīng)速率v正=k1x2SiHCl3 v逆=k2xSiH2Cl2 xSiCl4，k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù)，與反應(yīng)溫度有關(guān)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)，則在353.15K時(shí)=k1k2（保留3位小數(shù)）。發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：19引用：1難度：0.5
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