晶體硅是一種重要的非金屬材料，有科學(xué)家認(rèn)為硅是“21世紀(jì)的能源”、“未來(lái)的石油”。
（1）工業(yè)上生產(chǎn)純硅的工藝流程如圖：

石英砂的主要成分是SiO₂在制備粗硅時(shí)，焦炭的作用是

還原劑

還原劑

（填“氧化劑“或“還原劑“）：在該反應(yīng)中，若消耗了3.0gSiO₂，則轉(zhuǎn)移電子的總數(shù)為

1.204×10²³

1.204×10²³

。
（2）某實(shí)驗(yàn)室利用SiHCl₃（沸點(diǎn)33.0℃）與過(guò)量H₂在1000℃～l100℃反應(yīng)制得純硅。已知SiHCl₃能與H₂O強(qiáng)烈反應(yīng)，在空氣中易自燃。裝置如圖所示（熱源及夾持裝置略去）。  
①裝置B中的試劑是

濃硫酸

濃硫酸

。裝置C中的燒瓶需要加熱。其目的是

使SiHCl₃氣化，與氫氣反應(yīng)

使SiHCl₃氣化，與氫氣反應(yīng)

。
②反應(yīng)一段時(shí)間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是

有固體物質(zhì)生成

有固體物質(zhì)生成

；裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為

SiHCl₃+H₂

高溫

Si+3HCl

SiHCl₃+H₂

高溫

Si+3HCl

。
③為檢驗(yàn)產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì)，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需要加入的試劑有

bd

bd

（填字母）。
a.碘水  b.氯水  c.Na₂SO₃溶液   d.KSCN溶液