試卷征集
加入會員
操作視頻

晶體硅是一種重要的非金屬材料,制備純硅的主要步驟如下:
①高溫下用過量的碳還原二氧化硅制得粗硅,同時得到一種可燃性氣態(tài);
②粗硅與干燥的HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3(Si+3HCl=SiHCl3+H2
③SiHCl3與過量的H2在1000℃~1100℃反應(yīng)制得純硅,已知SiHCl3能與水強烈反應(yīng),在空氣中易自燃.請回答:
(1)第一步制取硅的化學方程式
2C+SiO2
高溫
Si+2CO↑
2C+SiO2
高溫
Si+2CO↑

(2)粗硅與HCl反應(yīng)完全后,經(jīng)冷凝得到的SiHCl3(沸點33.0℃)中含有少量SiCl4(沸點57.6℃),提純SiHCl3可采用
蒸餾
蒸餾
的方法.
(3)實驗室用SiHCl3與過量的H2反應(yīng)制取純硅裝置如圖所示(加熱和夾持裝置略去):
菁優(yōu)網(wǎng)
①裝置B中的試劑是
濃硫酸
濃硫酸
,裝置C需水浴加熱,目的是
使SiHCl3氣化,與氫氣反應(yīng)
使SiHCl3氣化,與氫氣反應(yīng)

②反應(yīng)一段時間后,裝置D中可觀察到有晶體硅生成,裝置D不能采用普通玻璃管的原因是
SiHCl3與過量的H2在1000℃~1100℃反應(yīng)制得純硅,溫度太高,普通玻璃管易熔化
SiHCl3與過量的H2在1000℃~1100℃反應(yīng)制得純硅,溫度太高,普通玻璃管易熔化
,D中發(fā)生的反應(yīng)的化學方程式是
SiHCl3+H2=Si+3HCl
SiHCl3+H2=Si+3HCl

③為保證實驗的成功,操作的關(guān)鍵除題中已告知的之外,你認為最重要的還有:
裝置要嚴密
裝置要嚴密
,
控制好溫度
控制好溫度
.(答出兩點)

【答案】2C+SiO2
高溫
Si+2CO↑;蒸餾;濃硫酸;使SiHCl3氣化,與氫氣反應(yīng);SiHCl3與過量的H2在1000℃~1100℃反應(yīng)制得純硅,溫度太高,普通玻璃管易熔化;SiHCl3+H2=Si+3HCl;裝置要嚴密;控制好溫度
【解答】
【點評】
聲明:本試題解析著作權(quán)屬菁優(yōu)網(wǎng)所有,未經(jīng)書面同意,不得復制發(fā)布。
發(fā)布:2024/4/20 14:35:0組卷:67引用:2難度:0.1
相似題
  • 1.氧化鎂在醫(yī)藥等行業(yè)應(yīng)用廣泛。實驗室以菱鎂礦(主要成分為MgCO3,含少量FeCO3,其他雜質(zhì)不溶于水和酸) 為原料制備高純氧化鎂的實驗流程如圖1:
    菁優(yōu)網(wǎng)
    (1)為了提高“酸浸”的效果,可采取的措施有:適當升高溫度、
     
    。MgCO3與稀硫酸反應(yīng)的化學方程式為
     
    。
    (2)“氧化”過程中,將FeSO4全部轉(zhuǎn)化為Fe2(SO43,然后加氨水,調(diào)節(jié)溶液的pH范圍為
     
    。(已知部分金屬陽離子以氫氧化物形成沉淀時溶液的pH見表)
     對應(yīng)離子  Fe3+ Fe2+ Mg2+
     開始沉淀時的pH 2.7 7.9 9.4
     完全沉淀時的pH 3.7 9.6 11.4
    (3)過濾后得到濾渣2和濾液,濾渣2是
     
    (填化學式),此時濾液中的陽離子一定含有
     
    (填離子符號)。
    (4)煅燒過程存在以下反應(yīng):
    2MgSO4+C
    800
    2MgO+2SO2↑+CO2
    MgSO4+C
    800
    MgO+SO2↑+CO↑
    MgSO4+3C
    800
    MgO+S↑+3CO↑
    已知:①硫在常溫下是一種淡黃色固體,硫的熔點約為115.2℃,沸點約為444.7℃;②高錳酸鉀溶液與SO2反應(yīng)會褪色,且只吸收SO2,不吸收CO2; ③堿溶液既吸收SO2,又吸收CO2.利用如圖2裝置對煅燒產(chǎn)生的氣體進行檢驗并收集。
    ①集氣瓶B中盛放的溶液是
     
    (填字母),C中盛放的溶液是
     
    (填字母)。
    a.Ca(OH)2溶液
    b.KMnO4溶液
    c.NaOH溶液
    d.BaCl2溶液
    ②裝置D的作用是
     
    。

    發(fā)布:2024/12/25 16:0:1組卷:127引用:2難度:0.5
  • 2.硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請回答下列問題:
    (1)制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當前制 備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過程示意圖如圖:
    菁優(yōu)網(wǎng)
    ①寫出由純SiHCl3,制備高純硅的化學反應(yīng)方程式_
     
    。
    ②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫出配平的化學反應(yīng)方程式
     
    ;H2還原SiHCl3過程中若混入O2,可能引起的后果是
     
    。
    (2)石英砂的主要成分是二氧化硅,高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料----光導纖維。二氧化硅和二氧化碳一樣,也能與氫氧化鈉溶液生成硅酸鈉(其水溶液稱水玻璃)和水。請寫出二氧化硅與氫氧化鈉溶液的化學方程式
     
    。

    發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:23引用:1難度:0.5
  • 3.波爾多液含氫氧化鈣、氫氧化銅和硫酸鈣等物質(zhì),是農(nóng)業(yè)上常用的殺菌劑。一種生產(chǎn)波爾多液的工藝流程如圖。
    菁優(yōu)網(wǎng)
    (1)“煅燒”的化學方程式為
     
    ,該反應(yīng)屬于基本反應(yīng)類型中的
     
    反應(yīng)。
    (2)“混合”時不能用鐵制容器,原因是
     
    (用化學方程式表示)。
    (3)“混合”時需不斷攪拌,目的是
     
    。
    (4)“混合”過程中發(fā)生復分解反應(yīng)的化學方程式為
     
    。
    (5)“混合”后得到的波爾多液溫度明顯高于室溫,原因是
     
    。
    (6)用
     
    可以測定波爾多液酸堿度。

    發(fā)布:2024/12/25 17:30:2組卷:50引用:2難度:0.5
小程序二維碼
把好題分享給你的好友吧~~
APP開發(fā)者:深圳市菁優(yōu)智慧教育股份有限公司| 應(yīng)用名稱:菁優(yōu)網(wǎng) | 應(yīng)用版本:5.0.7 |隱私協(xié)議|第三方SDK|用戶服務(wù)條款
本網(wǎng)部分資源來源于會員上傳,除本網(wǎng)組織的資源外,版權(quán)歸原作者所有,如有侵犯版權(quán),請立刻和本網(wǎng)聯(lián)系并提供證據(jù),本網(wǎng)將在三個工作日內(nèi)改正