氫能是一種極具發(fā)展?jié)摿Φ那鍧嵞茉矗珻H4-H2O催化重整是目前大規(guī)模制取氫氣的重要方法。
(1)CH4-H2O催化重整:
反應(yīng)Ⅰ:CH4(g)+H2O(g)?CO(g)+3H2(g)△H1=+210kJ?mol-1
反應(yīng)Ⅱ:CO(g)+H2O(g)?CO2(g)+H2(g)△H2=-41kJ?mol-1
①提高CH4平衡轉(zhuǎn)化率的條件是 cc。
a.增大壓強(qiáng) b.加入催化劑 c.增大水蒸氣濃度
②CH4、H2O催化重整生成CO2、H2的熱化學(xué)方程式是 CH4(g)+2H2O?CO2(g)+4H2(g)△H=+169 kJ?mol-1CH4(g)+2H2O?CO2(g)+4H2(g)△H=+169 kJ?mol-1。
③在密閉容器中,將2.0mol CO與8.0mol H2O混合加熱到800℃發(fā)生反應(yīng)Ⅱ,達(dá)
到平衡時(shí)CO的轉(zhuǎn)化率是80%,其平衡常數(shù)為 11。
(2)實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn),其他條件不變,相同時(shí)間內(nèi),向催化重整體系中投入一定量的CaO可以明顯提高H2的百分含量。做對(duì)比實(shí)驗(yàn),結(jié)果如圖所示:
①投入CaO時(shí),H2百分含量增大的原因是:CaO可吸收CO2,c(CO2)減小,使生成H2的反應(yīng)正向移動(dòng),H2百分含量增大CaO可吸收CO2,c(CO2)減小,使生成H2的反應(yīng)正向移動(dòng),H2百分含量增大。
②投入納米CaO時(shí),H2百分含量增大的原因是:納米CaO顆粒小,表面積大,吸收二氧化碳的量增大,促進(jìn)平衡正向進(jìn)行,使反應(yīng)速率加快,H2百分含量增大納米CaO顆粒小,表面積大,吸收二氧化碳的量增大,促進(jìn)平衡正向進(jìn)行,使反應(yīng)速率加快,H2百分含量增大。
(3)反應(yīng)中催化劑活性會(huì)因積炭反應(yīng)而降低,相關(guān)數(shù)據(jù)如下表:
反應(yīng) | Ⅰ | Ⅱ |
CH4(g) 積炭 消炭 |
2CO(g) 積炭 消炭 |
|
△H(kJ?mol-1) | +75 | -173 |
降低溫度、增大壓強(qiáng)
降低溫度、增大壓強(qiáng)
。②如果Ⅰ、Ⅱ均發(fā)生了積炭反應(yīng),通入過(guò)量水蒸氣能有效清除積炭,反應(yīng)的化學(xué)方程式是
C+H2O=CO+H2
C+H2O=CO+H2
。【答案】c;CH4(g)+2H2O?CO2(g)+4H2(g)△H=+169 kJ?mol-1;1;CaO可吸收CO2,c(CO2)減小,使生成H2的反應(yīng)正向移動(dòng),H2百分含量增大;納米CaO顆粒小,表面積大,吸收二氧化碳的量增大,促進(jìn)平衡正向進(jìn)行,使反應(yīng)速率加快,H2百分含量增大;降低溫度、增大壓強(qiáng);C+H2O=CO+H2
【解答】
【點(diǎn)評(píng)】
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發(fā)布:2024/6/27 10:35:59組卷:37引用:3難度:0.6
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1.甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域,三氯氫硅(SiHCl3)是制備甲硅烷的重要原料。回答下列問(wèn)題:
(1)工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有:
Si(s)+4HCl(g)═SiCl4(g)+2H2(g)△H=-241kJ/mol
SiHCl3(g)+HCl(g)═SiCl4(g)+H2(g)△H=-31kJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是
(2)鋁鋰形成化合物L(fēng)iAlH4既是金屬儲(chǔ)氫材料又是有機(jī)合成中的常用試劑,遇水能得到無(wú)色溶液并劇烈分解釋放出H2,請(qǐng)寫出其水解反應(yīng)化學(xué)方程式
(3)三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)為歧化制甲硅烷過(guò)程的關(guān)鍵步驟,此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑,在不同反應(yīng)溫度下測(cè)得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時(shí),平衡轉(zhuǎn)化率為
②323.15K時(shí),要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間,可采取的最佳措施是
(4)比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐a
v逆=k2x2_SiH2Cl2xSiCl4,k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù),與反應(yīng)溫度有關(guān),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù),則在353.15K時(shí)=k1k2
(5)硅元素最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)的水化物是H2SiO3,室溫下,0.1mol/L的硅酸鈉溶液和0.1mol/L的碳酸鈉溶液,堿性更強(qiáng)的是
已知:H2SiO3:Ka1=2.0×10-10、Ka2=1.0×10-12,H2CO3:Ka1=4.3×10-7、Ka2=5.6×10-11發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:61引用:2難度:0.2 -
2.在催化劑作用下,可逆反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)在溫度為323K和343K時(shí)SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間變化的結(jié)果如圖所示(已知:反應(yīng)速率v=v正-v逆=k正x2SiHCl3-k逆xSiH2Cl2xSiCl4,k正、k逆分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù))。下列說(shuō)法錯(cuò)誤的是( ?。?/h2>
A.343K時(shí),反應(yīng)的平衡轉(zhuǎn)化率為22% B.343K時(shí),反應(yīng)的平衡常數(shù)約為0.02 C.343K時(shí),提高反應(yīng)物壓強(qiáng)或濃度可縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間 D.a(chǎn)處的 =1.1,且a處的反應(yīng)速率大于b處的反應(yīng)速率v正v逆發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:40引用:1難度:0.5 -
3.甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域,三氯氫硅(SiHCl3)是制備甲硅烷的重要原料。回答下列問(wèn)題:
(1)工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有:
①Si(s)+4HCl(g)═SiCl4( g)+2H2(g)△H=-24lkJ/mol
②SiHCl3 (g)+HCl(g)═SiCl4 (g)+H2(g)△H=-3lkJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是
(2)工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰(LiAlH4)制甲硅烷,反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為
(3)三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)為歧化制甲硅烷過(guò)程的關(guān)鍵步驟,此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑,在不同反應(yīng)溫度下測(cè)得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時(shí),平衡轉(zhuǎn)化率為
③比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐a=k1k2發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:19引用:1難度:0.5
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