高聚物H可用于光刻工藝中，作抗腐蝕涂層。下列是高聚物H的一種合成路線：

已知：①RCHO+R₁CH₂COOH

催化劑

，

350

°

+H₂O；
②由B生成C的反應(yīng)屬于加聚反應(yīng)；
③D屬于高分子化合物。
請(qǐng)回答下列問題：
（1）X生成Y的條件是

光照

光照

。E的分子式為

C₇H₈O

C₇H₈O

。
（2）芳香烴I與A的實(shí)驗(yàn)式相同，經(jīng)測(cè)定I的核磁共振氫譜有5組峰且峰面積之比為1：1：2：2：2，則I的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式為

。推測(cè)I可以發(fā)生的反應(yīng)類型是

加成反應(yīng)（或氧化反應(yīng)、加聚反應(yīng)、取代反應(yīng)、還原反應(yīng)等）

加成反應(yīng)（或氧化反應(yīng)、加聚反應(yīng)、取代反應(yīng)、還原反應(yīng)等）

（寫出1種即可）。
（3）由CaC₂生成A的化學(xué)方程式為

CaC₂+2H₂O→Ca（OH）₂+CH≡CH↑

CaC₂+2H₂O→Ca（OH）₂+CH≡CH↑

。
（4）由E生成F的化學(xué)方程式為

。
（5）G的同分異構(gòu)體中，與G具有相同官能團(tuán)的芳香族化合物還有

4

4

種（不考慮立體異構(gòu)）。
（6）參照上述合成路線，以對(duì)二甲苯和乙酸為原料（無機(jī)試劑任選），設(shè)計(jì)制備的合成路線。