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運(yùn)用化學(xué)反應(yīng)原理研究碳、氮、硫的單質(zhì)及其化合物的反應(yīng)對(duì)緩解環(huán)境污染、能源危機(jī)具有重要意義。
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I.氨為重要的化工原料,有廣泛用途。
(1)合成氨中的氫氣可由下列反應(yīng)制?。?br />a.CH4(g)+H2O(g)?CO(g)+3H2(g)△H1=+216.4kJ/mol
b.CO(g)+H2O(g)?CO2(g)+H2(g)△H2=-41.2kJ/mol
則反應(yīng)CH4(g)+2H2O(g)?CO2(g)+4H2(g)△H=
+175.2kJ/mol
+175.2kJ/mol
。
(2)起始時(shí)投入氮?dú)夂蜌錃獾奈镔|(zhì)的量分別為1mol、3mol,在不同溫度和壓強(qiáng)下合成氨。平衡時(shí)混合物中氨的體積分?jǐn)?shù)與溫度的關(guān)系如圖1。
①恒壓時(shí),反應(yīng)一定達(dá)到平衡狀態(tài)的標(biāo)志是
BC
BC
(填序號(hào))
A.N2和H2的轉(zhuǎn)化率相等
B.反應(yīng)體系密度保持不變
C.
c
H
2
c
N
H
3
保持不變
D.
c
N
H
3
c
N
2
=2
②P1
P2(填“>”“=”或“不確定”,下同);反應(yīng)的平衡常數(shù):B點(diǎn)
D點(diǎn)。
③C點(diǎn)H2的轉(zhuǎn)化率為
66.7%
66.7%
;在A、B兩點(diǎn)條件下,該反應(yīng)從開始到平衡時(shí)生成氮?dú)獾钠骄俾剩害裕ˋ)
υ(B)。
Ⅱ.用間接電化學(xué)法去除煙氣中NO的原理如圖2所示。
已知陰極室溶液呈酸性,則陰極的電極反應(yīng)式為
2SO32-+4H++2e-=S2O42-+2H2O
2SO32-+4H++2e-=S2O42-+2H2O
。反應(yīng)過程中通過質(zhì)子交換膜(ab)的H+為2mol時(shí),吸收柱中生成的氣體在標(biāo)準(zhǔn)狀況下的體積為
11.2
11.2
L。

【答案】+175.2kJ/mol;BC;<;>;66.7%;<;2SO32-+4H++2e-=S2O42-+2H2O;11.2
【解答】
【點(diǎn)評(píng)】
聲明:本試題解析著作權(quán)屬菁優(yōu)網(wǎng)所有,未經(jīng)書面同意,不得復(fù)制發(fā)布。
發(fā)布:2024/6/27 10:35:59組卷:75引用:6難度:0.5
相似題
  • 菁優(yōu)網(wǎng)1.甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域,三氯氫硅(SiHCl3)是制備甲硅烷的重要原料。回答下列問題:
    (1)工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有:
    Si(s)+4HCl(g)═SiCl4(g)+2H2(g)△H=-241kJ/mol
    SiHCl3(g)+HCl(g)═SiCl4(g)+H2(g)△H=-31kJ/mol
    以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是
     
    。
    (2)鋁鋰形成化合物L(fēng)iAlH4既是金屬儲(chǔ)氫材料又是有機(jī)合成中的常用試劑,遇水能得到無色溶液并劇烈分解釋放出H2,請(qǐng)寫出其水解反應(yīng)化學(xué)方程式
     
    。LiAlH4在化學(xué)反應(yīng)中通常作
     
    (填“氧化”或“還原”)劑。工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰(LiAlH4)制甲硅烷,反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為
     
    。
    (3)三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)為歧化制甲硅烷過程的關(guān)鍵步驟,此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑,在不同反應(yīng)溫度下測得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
    ①353.15K時(shí),平衡轉(zhuǎn)化率為
     
    ,該反應(yīng)是
     
    反應(yīng)(填“放熱”“吸熱”)。
    ②323.15K時(shí),要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間,可采取的最佳措施是
     
    。
    (4)比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐a
     
    v(填“>”“<”或“=”)。已知反應(yīng)速率v=k1x2_SiHCl3
    v=k2x2_SiH2Cl2xSiCl4,k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù),與反應(yīng)溫度有關(guān),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù),則在353.15K時(shí)
    k
    1
    k
    2
    =
     
    (保留3位小數(shù))。
    (5)硅元素最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)的水化物是H2SiO3,室溫下,0.1mol/L的硅酸鈉溶液和0.1mol/L的碳酸鈉溶液,堿性更強(qiáng)的是
     
    ,其原因是
     
    。
    已知:H2SiO3:Ka1=2.0×10-10、Ka2=1.0×10-12,H2CO3:Ka1=4.3×10-7、Ka2=5.6×10-11

    發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:61引用:2難度:0.2
  • 菁優(yōu)網(wǎng)2.在催化劑作用下,可逆反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)在溫度為323K和343K時(shí)SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間變化的結(jié)果如圖所示(已知:反應(yīng)速率v=v-v=kx2SiHCl3-kxSiH2Cl2xSiCl4,k、k分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù))。下列說法錯(cuò)誤的是( ?。?/h2>

    發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:40引用:1難度:0.5
  • 菁優(yōu)網(wǎng)3.甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域,三氯氫硅(SiHCl3)是制備甲硅烷的重要原料。回答下列問題:
    (1)工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有:
    ①Si(s)+4HCl(g)═SiCl4( g)+2H2(g)△H=-24lkJ/mol
    ②SiHCl3 (g)+HCl(g)═SiCl4 (g)+H2(g)△H=-3lkJ/mol
    以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是
     
    。
    (2)工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰(LiAlH4)制甲硅烷,反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為
     
    。
    (3)三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3(g)?SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)為歧化制甲硅烷過程的關(guān)鍵步驟,此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑,在不同反應(yīng)溫度下測得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
    ①353.15K時(shí),平衡轉(zhuǎn)化率為
     
    。該反應(yīng)是
     
    反應(yīng)(填“放熱”或“吸熱”)。②323.15K時(shí),要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間,可采取的措施有
     
    。(答一種即可)
    ③比較a、b處反應(yīng)速率的大小:va
     
    vb(填“>”“<”或“=”)。已知反應(yīng)速率v=k1x2SiHCl3 v=k2xSiH2Cl2 xSiCl4,k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù),與反應(yīng)溫度有關(guān),x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù),則在353.15K時(shí)
    k
    1
    k
    2
    =
     
    (保留3位小數(shù))。

    發(fā)布:2024/12/26 8:0:1組卷:19引用:1難度:0.5
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