有機物M可用作光刻工藝中的抗腐蝕涂層，其合成路線如圖：
已知：R1-CHO+R2-CH2CHO一定條件
請回答下列問題：
（1）B的名稱為 氯乙烯氯乙烯。
（2）M中含氧官能團的名稱為 酯基酯基。
（3）F→G的反應(yīng)類型為 消去反應(yīng)消去反應(yīng)。
（4）C→D的化學(xué)反應(yīng)方程式為 
+n NaOH水△
+n NaCl+n NaOH水△+n NaCl。
（5）H的結(jié)構(gòu)簡式為 
。
（6）同時滿足下列條件的F的同分異構(gòu)體有 1414種（不考慮立體異構(gòu)）。
①屬于芳香族化合物；
②能發(fā)生水解反應(yīng)和銀鏡反應(yīng)。
寫出其中一種核磁共振氫譜有4種吸收峰，且峰面積之比為6：2：1：1的結(jié)構(gòu)簡式 
（或
）（或）。
（7）參照上述合成路線和相關(guān)信息，設(shè)計以乙烯和乙醛為原料（無機試劑任選）制備有機物
的合成路線 
。
一定條件
+n NaOH水
△
+n NaCl+n NaOH水
△
+n NaCl（或）（或）【考點】有機物的合成．
【答案】氯乙烯；酯基；消去反應(yīng)；+n NaOH+n NaCl；；14；（或）；
+n NaOH水
△
+n NaCl；；14；（或）；【解答】
【點評】
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發(fā)布：2024/4/20 14:35:0組卷：38引用：3難度：0.5
相似題
-
1．由物質(zhì)a為原料，制備物質(zhì)d （金剛烷）的合成路線如圖所示：
關(guān)于以上有機物的說法中，不正確的是（ ?。?/h2>發(fā)布：2024/12/30 14:30:1組卷：18引用：2難度：0.7 -
2．有機物K是某藥物的前體，合成路線如圖所示。
已知：R-CNR-CH2NH2；H2催化劑
R1-NH2+R2-COOC2H5催化劑
+C2H5OH。
（1）B的結(jié)構(gòu)簡式是。
（2）反應(yīng)③的化學(xué)方程式是。
（3）E屬于烴，其分子式是。
（4）H中含氧官能團的名稱是。
（5）寫出滿足下列條件的K的一種同分異構(gòu)體的結(jié)構(gòu)簡式：
①遇氯化鐵溶液顯紫色；
②不含醚鍵；
③核磁共振氫譜顯示峰面積之比為2：12：2：2：1。
（6）H經(jīng)三步反應(yīng)合成K，寫出J→K的化學(xué)方程式。
發(fā)布：2024/12/30 11:0:1組卷：11引用：3難度：0.3 -
3．已知：（X代表鹵素原子，R代表烴基）
利用上述信息，按以下步驟從
合成
（部分試劑和反應(yīng)條件已略去）
請回答下列問題：
（1）分別寫出A、E的結(jié)構(gòu)簡式：A、E。
（2）反應(yīng)①～⑦中屬于消去反應(yīng)的是。（填數(shù)字代號）
（3）如果不考慮⑥、⑦反應(yīng)，對于反應(yīng)⑤，得到的E可能的結(jié)構(gòu)簡式為（不包含E在內(nèi)）：
（4）試寫出C→D反應(yīng)的化學(xué)方程式（有機物寫結(jié)構(gòu)簡式，并注明反應(yīng)條件）
（5）寫出第⑦步的化學(xué)方程式：。發(fā)布：2024/12/30 11:0:1組卷：5引用：2難度：0.5
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