當(dāng)發(fā)動(dòng)機(jī)工作時(shí)，反應(yīng)產(chǎn)生的NO尾氣是主要污染物之一，NO的脫除方法和轉(zhuǎn)化機(jī)理是當(dāng)前研究的熱點(diǎn)。請(qǐng)回答下列問(wèn)題：
（1）已知：
2NO（g）+O2（g）=2NO2（g）ΔH1=-113kJ?mol-1
6NO2（g）+O3（g）=3N2O5（g）ΔH2=-227kJ?mol-1
4NO2（g）+O2（g）=2N2O5（g）ΔH3=-57kJ?mol-1
則2O3（g）=3O2（g）是 放熱放熱反應(yīng)（填“放熱”或“吸熱”），以上O3氧化脫除氮氧化物的總反應(yīng)是NO（g）+O3（g）=NO2（g）+O2（g）ΔH4=-198kJ?mol-1-198kJ?mol-1，最后將NO2與 還原還原劑反應(yīng)轉(zhuǎn)化為無(wú)污染的氣體而脫除。
（2）已知：2NO（g）+O2（g）?2NO2（g）的反應(yīng)歷程分兩步：
| 步驟 | 反應(yīng) | 活化能 | 正反應(yīng)速率方程 | 逆反應(yīng)速率方程 |
| Ⅰ | 2NO（g）?N2O2（g）（快） | Ea1 | v1正=K1?C2（NO） | v1逆=K2?C（N2O2） |
| Ⅱ | N2O2（g）+O2（g）?2NO2（g）（慢） | Ea2 | v2正=K3?c（N2O2）?c（O2） | v2逆=K4?C2（NO2） |
增大
增大
（填“增大”或“減小”）。②反應(yīng)Ⅰ瞬間建立平衡，因此決定2NO（g）+O2（g）?2NO2（g）反應(yīng)速率快慢的是
反應(yīng)Ⅱ
反應(yīng)Ⅱ
，則反應(yīng)Ⅰ與反應(yīng)Ⅱ的活化能的大小關(guān)系為Ea1＜
＜
Ea2（填“＞”“＜”或“=”）。③反應(yīng)2NO（g）+O2（g）?2NO2（g）的K=
k
1
?
k
3
k
2
?
k
4
k
1
?
k
3
k
2
?
k
4
（3）將一定量的NO2放入恒容密閉容器中發(fā)生下列反應(yīng)：2NO2（g）?2NO（g）+O2（g），測(cè)得其平衡轉(zhuǎn)化率α（NO2）隨溫度變化如圖所示，從b點(diǎn)到a點(diǎn)降溫，平衡將向
左（或逆反應(yīng)方向）
左（或逆反應(yīng)方向）
移動(dòng)。圖中a點(diǎn)對(duì)應(yīng)溫度下，NO2的起始?jí)簭?qiáng)為160kPa,該溫度下反應(yīng)的平衡常數(shù)Kp=108kPa
108kPa
（用平衡分壓代替平衡濃度計(jì)算，分壓=總壓×物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)）。【答案】放熱；-198kJ?mol-1；還原；增大；反應(yīng)Ⅱ；＜；；左（或逆反應(yīng)方向）；108kPa
k
1
?
k
3
k
2
?
k
4
【解答】
【點(diǎn)評(píng)】
聲明：本試題解析著作權(quán)屬菁優(yōu)網(wǎng)所有，未經(jīng)書(shū)面同意，不得復(fù)制發(fā)布。
發(fā)布：2024/5/25 8:0:9組卷：36引用：2難度：0.5
相似題
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1．在催化劑作用下，可逆反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）在溫度為323K和343K時(shí)SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間變化的結(jié)果如圖所示（已知：反應(yīng)速率v=v正-v逆=k正x2SiHCl3-k逆xSiH2Cl2xSiCl4，k正、k逆分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)）。下列說(shuō)法錯(cuò)誤的是（ ?。?/h2>發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：40引用：1難度：0.5 -
2．甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域，三氯氫硅（SiHCl3）是制備甲硅烷的重要原料。回答下列問(wèn)題：
（1）工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有：
Si（s）+4HCl（g）═SiCl4（g）+2H2（g）△H=-241kJ/mol
SiHCl3（g）+HCl（g）═SiCl4（g）+H2（g）△H=-31kJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是。
（2）鋁鋰形成化合物L(fēng)iAlH4既是金屬儲(chǔ)氫材料又是有機(jī)合成中的常用試劑，遇水能得到無(wú)色溶液并劇烈分解釋放出H2，請(qǐng)寫(xiě)出其水解反應(yīng)化學(xué)方程式。LiAlH4在化學(xué)反應(yīng)中通常作（填“氧化”或“還原”）劑。工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰（LiAlH4）制甲硅烷，反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為。
（3）三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）為歧化制甲硅烷過(guò)程的關(guān)鍵步驟，此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑，在不同反應(yīng)溫度下測(cè)得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時(shí)，平衡轉(zhuǎn)化率為，該反應(yīng)是反應(yīng)（填“放熱”“吸熱”）。
②323.15K時(shí)，要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間，可采取的最佳措施是。
（4）比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐avb （填“＞”“＜”或“=”）。已知反應(yīng)速率v正=k1x2_SiHCl3，
v逆=k2x2_SiH2Cl2xSiCl4，k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù)，與反應(yīng)溫度有關(guān)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)，則在353.15K時(shí)=k1k2（保留3位小數(shù)）。
（5）硅元素最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)的水化物是H2SiO3，室溫下，0.1mol/L的硅酸鈉溶液和0.1mol/L的碳酸鈉溶液，堿性更強(qiáng)的是，其原因是。
已知：H2SiO3：Ka1=2.0×10-10、Ka2=1.0×10-12，H2CO3：Ka1=4.3×10-7、Ka2=5.6×10-11發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：61引用：2難度：0.2 -
3．甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域，三氯氫硅（SiHCl3）是制備甲硅烷的重要原料?；卮鹣铝袉?wèn)題：
（1）工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有：
①Si（s）+4HCl（g）═SiCl4（ g）+2H2（g）△H=-24lkJ/mol
②SiHCl3 （g）+HCl（g）═SiCl4 （g）+H2（g）△H=-3lkJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是。
（2）工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰（LiAlH4）制甲硅烷，反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為。
（3）三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）為歧化制甲硅烷過(guò)程的關(guān)鍵步驟，此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑，在不同反應(yīng)溫度下測(cè)得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時(shí)，平衡轉(zhuǎn)化率為。該反應(yīng)是反應(yīng)（填“放熱”或“吸熱”）。②323.15K時(shí)，要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間，可采取的措施有。（答一種即可）
③比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐avb（填“＞”“＜”或“=”）。已知反應(yīng)速率v正=k1x2SiHCl3 v逆=k2xSiH2Cl2 xSiCl4，k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù)，與反應(yīng)溫度有關(guān)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)，則在353.15K時(shí)=k1k2（保留3位小數(shù)）。發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：19引用：1難度：0.5
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