含氮污染物的有效去除和資源的充分利用是重要研究課題，回答下列問題：
（1）利用工業(yè)尾氣NO2與O3反應(yīng)制備新型硝化劑N2O5，過程中涉及以下反應(yīng)：
Ⅰ．2O3（g）?3O2（g）ΔH1平衡常數(shù)K1
Ⅱ．4NO2（g）+O2（g）?2N2O5（g）ΔH2平衡常數(shù)K2
Ⅲ．2NO2（g）+O3（g）?N2O5（g）+O2（g）ΔH3平衡常數(shù)K3
平衡常數(shù)K與溫度T的函數(shù)關(guān)系為lnK1=x+34159/T，lnK2=y+15372/T，lnK3=z+24765/T，其中x、y、z為常數(shù)，則反應(yīng)Ⅰ的活化能Ea（正） ＜＜Ea（逆）（填“＞”或“＜”），ΔH2ΔH3的數(shù)值范圍是 0＜ΔH2ΔH3＜20＜ΔH2ΔH3＜2．
（2）NH3與O2作用分別生成N2、NO、N2O的反應(yīng)均為放熱反應(yīng)．工業(yè)尾氣中的NH3可通過催化氧化為N2除去．將一定比例的NH3、O2和N2的混合氣體以一定流速通過裝有催化劑的反應(yīng)管，NH3的轉(zhuǎn)化率、N2的選擇在[2n（N2）n（NH3）×100%]與溫度的關(guān)系如圖所示．
①其他條件不變，在175～300℃范圍內(nèi)升高溫度，出口處氮氧化物的量 增大增大（填“增大”或減小”），NH3的平衡轉(zhuǎn)化率 減小減小（填“增大”或“減小”）．
②需研發(fā) 低溫低溫（“高溫”或“低溫”）下N2的選擇性高的催化劑，能更有效除去尾氣中的NH3．
（3）在催化劑條件下發(fā)生反應(yīng)：2NO（g）+2CO（g）N2（g）+2CO2（g）可消除NO和CO對環(huán)境的污染．為探究溫度對該反應(yīng)的影響，實(shí)驗(yàn)初始時(shí)體系中氣體分壓p（NO）=p（CO）且p（CO2）=2p（N2），測得反應(yīng)體系中CO和N2的分壓隨時(shí)間變化情況如表所示．
Δ
H
2
Δ
H
3
Δ
H
2
Δ
H
3
Δ
H
2
Δ
H
3
[
2
n
（
N
2
）
n
（
N
H
3
）
×
100
%
]
| 時(shí)間/min | 0 | 30 | 60 | 120 | 180 | |
| 200℃ | 物質(zhì)a的分壓/kPa | 4 | 8.8 | 13 | 20 | 20 |
| 物質(zhì)b的分壓/kPa | 48 | 45.6 | 43.5 | 40 | 40 | |
| 300℃ | 物質(zhì)a的分壓/kPa | 100 | 69.0 | 48 | 48 | 48 |
| 物質(zhì)b的分壓/kPa | 10 | 25.5 | 36 | 36 | 36 | |
＜
＜
0（填“＞”或“＜”），物質(zhì)a為 CO
CO
（填“CO”或N2”），200℃該反應(yīng)的化學(xué)平衡常數(shù)Kp=1.6
1.6
（kPa）-1．．【答案】＜；0＜＜2；增大；減小；低溫；＜；CO；1.6
Δ
H
2
Δ
H
3
【解答】
【點(diǎn)評】
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發(fā)布：2024/6/27 10:35:59組卷：37引用：2難度：0.6
相似題
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1．在催化劑作用下，可逆反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）在溫度為323K和343K時(shí)SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間變化的結(jié)果如圖所示（已知：反應(yīng)速率v=v正-v逆=k正x2SiHCl3-k逆xSiH2Cl2xSiCl4，k正、k逆分別為正、逆向反應(yīng)速率常數(shù)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)）。下列說法錯(cuò)誤的是（ ）發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：40引用：1難度：0.5 -
2．甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域，三氯氫硅（SiHCl3）是制備甲硅烷的重要原料?；卮鹣铝袉栴}：
（1）工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有：
Si（s）+4HCl（g）═SiCl4（g）+2H2（g）△H=-241kJ/mol
SiHCl3（g）+HCl（g）═SiCl4（g）+H2（g）△H=-31kJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是。
（2）鋁鋰形成化合物L(fēng)iAlH4既是金屬儲氫材料又是有機(jī)合成中的常用試劑，遇水能得到無色溶液并劇烈分解釋放出H2，請寫出其水解反應(yīng)化學(xué)方程式。LiAlH4在化學(xué)反應(yīng)中通常作（填“氧化”或“還原”）劑。工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰（LiAlH4）制甲硅烷，反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為。
（3）三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）為歧化制甲硅烷過程的關(guān)鍵步驟，此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑，在不同反應(yīng)溫度下測得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時(shí)，平衡轉(zhuǎn)化率為，該反應(yīng)是反應(yīng)（填“放熱”“吸熱”）。
②323.15K時(shí)，要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間，可采取的最佳措施是。
（4）比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐avb （填“＞”“＜”或“=”）。已知反應(yīng)速率v正=k1x2_SiHCl3，
v逆=k2x2_SiH2Cl2xSiCl4，k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù)，與反應(yīng)溫度有關(guān)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)，則在353.15K時(shí)=k1k2（保留3位小數(shù)）。
（5）硅元素最高價(jià)氧化物對應(yīng)的水化物是H2SiO3，室溫下，0.1mol/L的硅酸鈉溶液和0.1mol/L的碳酸鈉溶液，堿性更強(qiáng)的是，其原因是。
已知：H2SiO3：Ka1=2.0×10-10、Ka2=1.0×10-12，H2CO3：Ka1=4.3×10-7、Ka2=5.6×10-11發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：61引用：2難度：0.2 -
3．甲硅烷廣泛用于電子工業(yè)、汽車領(lǐng)域，三氯氫硅（SiHCl3）是制備甲硅烷的重要原料?；卮鹣铝袉栴}：
（1）工業(yè)上以硅粉和氯化氫氣體為原料生產(chǎn)SiHCl3時(shí)伴隨發(fā)生的反應(yīng)有：
①Si（s）+4HCl（g）═SiCl4（ g）+2H2（g）△H=-24lkJ/mol
②SiHCl3 （g）+HCl（g）═SiCl4 （g）+H2（g）△H=-3lkJ/mol
以硅粉和氯化氫氣體生產(chǎn)SiHCl3的熱化學(xué)方程式是。
（2）工業(yè)上可用四氯化硅和氫化鋁鋰（LiAlH4）制甲硅烷，反應(yīng)后得甲硅烷及兩種鹽。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為。
（3）三氯氫硅歧化也可制得甲硅烷。反應(yīng)2SiHCl3（g）?SiH2Cl2（g）+SiCl4（g）為歧化制甲硅烷過程的關(guān)鍵步驟，此反應(yīng)采用一定量的PA100催化劑，在不同反應(yīng)溫度下測得SiHCl3的轉(zhuǎn)化率隨時(shí)間的變化關(guān)系如圖所示。
①353.15K時(shí)，平衡轉(zhuǎn)化率為。該反應(yīng)是反應(yīng)（填“放熱”或“吸熱”）。②323.15K時(shí)，要縮短反應(yīng)達(dá)到平衡的時(shí)間，可采取的措施有。（答一種即可）
③比較a、b處反應(yīng)速率的大?。簐avb（填“＞”“＜”或“=”）。已知反應(yīng)速率v正=k1x2SiHCl3 v逆=k2xSiH2Cl2 xSiCl4，k1、k2分別是正、逆反應(yīng)的速率常數(shù)，與反應(yīng)溫度有關(guān)，x為物質(zhì)的量分?jǐn)?shù)，則在353.15K時(shí)=k1k2（保留3位小數(shù)）。發(fā)布：2024/12/26 8:0:1組卷：19引用：1難度：0.5
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