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Ⅰ.硅單質及其化合物用途廣泛,請回答下列問題:
(1)制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法,生
產過程示意圖如圖:
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寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學反應方程式:
SiHCl3+H2
1357
K
Si+3HCl
SiHCl3+H2
1357
K
Si+3HCl
。
(2)在人體器官受到損傷時,需要使用一種新型無機非金屬材料來植入體內,這種材料是
B
B
(填序號)。
A.高溫結構陶瓷
B.生物陶瓷
C.導電陶瓷
Ⅱ.某?;瘜W興趣小組按如圖所示裝置進行實驗,驗證木炭與濃硫酸反應放出的氣體是SO2、CO2和少量CO?;卮鹣铝袉栴}:
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(1)連接裝置后,先進行的操作是
檢查裝置的氣密性
檢查裝置的氣密性
;儀器a的名稱為
圓底燒瓶
圓底燒瓶
。
(2)洗氣瓶①②中溶液褪色,體現(xiàn)的二氧化硫的性質依次為
B
B
(填序號)。
A.氧化性、還原性
B.漂白性、還原性
C.漂白性、氧化性
D.還原性、漂白性
(3)洗氣瓶②中酸性高錳酸鉀溶液不能用足量的新制氯水代替的原因是
氯水中的Cl2分子會隨著CO2進入洗氣瓶③,使③中的品紅褪色
氯水中的Cl2分子會隨著CO2進入洗氣瓶③,使③中的品紅褪色
。
(4)上述實驗證明木炭與濃硫酸反應放出的氣體中有少量CO的實驗現(xiàn)象是
洗氣瓶⑤中有部分液體被排入⑥中
洗氣瓶⑤中有部分液體被排入⑥中
。

【答案】SiHCl3+H2
1357
K
Si+3HCl;B;檢查裝置的氣密性;圓底燒瓶;B;氯水中的Cl2分子會隨著CO2進入洗氣瓶③,使③中的品紅褪色;洗氣瓶⑤中有部分液體被排入⑥中
【解答】
【點評】
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發(fā)布:2024/6/27 10:35:59組卷:22引用:1難度:0.7
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    發(fā)布:2024/11/4 11:30:2組卷:101引用:4難度:0.5
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    (1)滴加濃硫酸之前,打開彈簧夾,通入一段時間N2,再關閉彈簧夾,打開裝置A分液漏斗的活塞,發(fā)現(xiàn)幾乎沒有氣體產生,原因是
     
    。
    (2)對A裝置加熱后,A中有大量氣體產生,反應的化學方程式為
     
    。
    (3)實驗過程裝置B中未見明顯變化,此時向裝置B中液體進行如下操作,從中分別取少量溶液于兩 支試管中。向第1支試管中通適量氨氣,立即出現(xiàn)白色沉淀,該沉淀為
     
    (填化學式);向第2支試管中滴加適量新制氯水,也有白色沉淀產生,該反應的離子方程式為
     
    。
    (4)反應一會后,在裝置C中的溶液中出現(xiàn)淡黃色渾濁,該實驗證明SO2具有
     
    性。
    (5)裝置D的作用是
     
    。
    (6)上述實驗后,用pH計測得D中溶液呈堿性。溶液為什么呈堿性呢?甲乙兩組同學提出了兩種猜想:①是生成的Na2SO3水解;②是氫氧化鈉剩余。請設計實驗方案證明哪種假設成立。可任選下列試劑進行實驗:Na2SO3溶液、酚酞溶液、氯水、BaCl2溶液、稀硫酸。
    實驗步驟 實驗操作 預期現(xiàn)象與結論
    1 取少量溶液于試管,滴入幾滴酚酞 溶液變紅
    2
     

     
    (7)在實驗過程中,同學們嗅到有刺激性氣味,于是利用裝置E進行實驗檢測SO2的含量,用注射器對實驗室內空氣進行取樣。并向裝置E中共注入V mL(已折算為標況下體積)的空氣,當溶液剛好褪色時,停止實驗。請計算該空氣中SO2的體積分數(shù)(用含V的代數(shù)式表示)
     
    。

    發(fā)布:2024/11/4 8:0:2組卷:11引用:1難度:0.6
  • 3.某學習小組探究鐵絲(含雜質碳)與濃硫酸的反應,反應裝置如圖(夾持裝置已省略)。下列說法錯誤的是( ?。?img alt="菁優(yōu)網" src="https://img.jyeoo.net/quiz/images/svg/202305/226/6a9c2dae.png" style="vertical-align:middle" />

    發(fā)布:2024/11/5 21:30:2組卷:75引用:1難度:0.5
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